无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液
产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度
吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：
1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。
2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。
3.循环抛光可以用原液。
吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：
1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃
2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。
3.避免敞口长期与空气接触。
吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：
吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。 |
产品介绍
