设备用途:设备可用于粉体、颗粒物料、硅负极材料气相沉积碳包覆等工艺的高温裂变。
设备主体尺寸:2200mmx1200mmx2000mm(以最终设计方案为准)。
回转炉体尺寸:中654mmx1500mm(实际装填物料工作区尺寸)。
设备设计产能:炉内最大填充率约为25%;最大批次处理5-50kg。炉体倾角:-4~15度(自动可调)/筒体转速:0.25~4转/分(变频可调)炉内气氛环境:满足高纯氮气(或者其他惰性气体)、乙炔、硅烷、甲烷等混合气体。设备使用温度:设计最高1100℃,炉内恒温时间跟据客户工艺调,可长期运行于1000℃加热方式:内嵌电阻丝模块圆周加热。
加热温区及控温个数:3个。
温控系统:岛电触摸屏+岛电模块(支持所有温度数据采集并导出PC)控温稳定性:士2℃℃/温控表精度:0.3℃/设备表面温升:<60℃。电源:三相,380VAC,50HZ。 |